単純な酸化処理で層状クロム酸化物薄膜の電気抵抗が20万分の1に！ 2025.10.1｜プレスリリース 石渡研（基）の共同研究成果がプレスリリースされました。 リンク先：https://resou.osaka-u.ac.jp/ja/research/2025/20251001_1
